На этот раз речь идет не об очередном защищенном стекле для гаджетов, а о свежем материале с крайне низким уровнем теплового расширения, предназначенном для применения в современных литографических системах, работающих на технологиях Low-NA и High-NA EUV.Этот новый материал, названный Extreme ULE, будет использоваться при создании фотошаблонов и литографических зеркал для будущих поколений устройств.Основным преимуществом Extreme ULE является его минимальный коэффициент теплового расширения, что позволяет добиться высокой однородности в производстве фотошаблонов.Как отмечено в официальном сообщении, его идеальная плоскостность и равномерность существенно уменьшают волнистость, снижая уровень нежелательных отклонений, что дает возможность наносить самые передовые покрытия.