/ focus.ua
Японские ученые разработали технологию для создания чипов нового поколения
Исследователи уcовершенствовали ионную металлизацию тонкопленочных металлических покрытий, что существенно продлит срок службы чипов.
Исследователи из Токийского столичного университета использовали метод распыления мощных импульсных магнетронов (HiPIMS) для создания тонких пленок из вольфрама с беспрецедентно низким уровнем напряжения.
Они также минимизировали количество дефектов, чтобы сформировать кристаллические пленки с напряжениями всего 0,03 ГПа. Это открывает путь к созданию чипов нового поколения для всей электронной промышленности.
Читать на focus.uaОб этом же в других СМИ
Японские ученые научили спутники предвещать извержения вулканов и мира cursorinfo.co.il / 2 года назад
Новое поколение не терпит лжи, - Балашов politeka.net / 2 года назад
Третий пол у водорослей обнаружили японские ученые vesti.ru / 2 года назад
Показать ещё
Сайт imag.one - агрегатор новостей из открытых источников. Источник указан в начале и в конце анонса. Вы можете пожаловаться на новость, если находите её недостоверной.