Израильский ученый и декан факультета материаловедения и инженерии Техниона Эйн-Эли изобрел технологию по самоочищению защитной маски для лица.
Об этом сообщают израильские СМИ во вторник, 26 мая.Так, Яир Эйн-Эли подал заявку на патент в США на свою инновацию, которая, по его словам, повысит гигиену и уменьшит дефицит масок."Наша идея может превратить маски из одноразовых предметов в гаджеты, которые люди чистят.
Это означает, что им не понадобится такая регулярная замена, а больницам не понадобятся такие большие запасы", - сказал Эйн-Эли.Напомним, 22 мая сообщалось, что сотрудники национального исследовательского центра эпидемиологии и микробиологии им.
Читать на vesti.ua