Китайская компания Shanghai Micro Electronic Equipment (SMEE) намерена выпустить сканер для чипов, которые станут лидерами по производительности, без использования технологий США.Сейчас китайская компания разрабатывает сканер для иммерсионной литографии в глубоком ультрафиолете (DUV).
Оборудование, по словам производителя, поступит на рынок к концу 2021 года. Для его создания используются материалы и технологии только из Японии и КНР.
Для электронной отрасли Поднебесной появление такого устройства — большой прорыв.Сканер разрабатывается специально для возможности независимого от санкций США производства по техпроцессу до 28 нм.
Читать на nation-news.ru