На форуме ITF USA 2019 бельгийский исследовательский центр Imec показал образец важной структуры чипа, выпущенного с использованием 3-нм норм производства.
Тем самым разработанная для этого технология и техпроцессы обещают открыть путь к массовому производству как 3-нм чипов, так и решений с меньшими технологическими нормами.
Техпроцесс выдерживает масштабирование и может отодвинуть финал действия закона Мура. Условная структура транзистора на кристалле и сопутствующих элементов Уточним, с техпроцессом с нормами 3 нм ассоциируется шаг металлических линий (проводников) шириной 21 нм.
Читать на vestirossii.com